APL in der Prozessindustrie
Notwendige Anforderungen und Erfolgsfaktoren
APL als physikalische Schnittstelle für Feldgeräte steht unmittelbar vor der Einführung. Vorteil ist die Transparenz von Ethernet bis in die Feldebene und die hohe Geschwindigkeit der Datenübertragung. Erste erfolgreiche Tests bei Anwendern haben bereits stattgefunden. Wesentlicher Erfolgsfaktor des zukünftigen Kommunikationsmediums in der Feldebene wird neben der physikalischen Schnittstelle auch die Funktionalität, Einfachheit und Benutzerfreundlichkeit des Gesamtsystems sein. Die hierfür notwendigen Anforderungen hat der AK 2.6 in verschiedenen Positionspapieren und NAMUR-Empfehlungen veröffentlicht und mit Herstellern und Organisationen diskutiert. Dabei werden sowohl bevorzugte Topologien, Kommunikationsprotokolle, Geräteintegration sowie die zukünftigen Anforderungen an die Anwendung von APL-Geräten in der Funktionalen Sicherheit betrachtet.
Autoren | Sven Seintsch |
---|---|
Erscheinungsdatum | 26.01.2022 |
Format | |
Verlag | Vulkan-Verlag GmbH |
Sprache | Deutsch |
Seitenzahl | 9 |
Titel | APL in der Prozessindustrie |
Untertitel | Notwendige Anforderungen und Erfolgsfaktoren |
Beschreibung | APL als physikalische Schnittstelle für Feldgeräte steht unmittelbar vor der Einführung. Vorteil ist die Transparenz von Ethernet bis in die Feldebene und die hohe Geschwindigkeit der Datenübertragung. Erste erfolgreiche Tests bei Anwendern haben bereits stattgefunden. Wesentlicher Erfolgsfaktor des zukünftigen Kommunikationsmediums in der Feldebene wird neben der physikalischen Schnittstelle auch die Funktionalität, Einfachheit und Benutzerfreundlichkeit des Gesamtsystems sein. Die hierfür notwendigen Anforderungen hat der AK 2.6 in verschiedenen Positionspapieren und NAMUR-Empfehlungen veröffentlicht und mit Herstellern und Organisationen diskutiert. Dabei werden sowohl bevorzugte Topologien, Kommunikationsprotokolle, Geräteintegration sowie die zukünftigen Anforderungen an die Anwendung von APL-Geräten in der Funktionalen Sicherheit betrachtet. |