Kristallzüchtung - Verfahren, Anwendungen, Energieversorgungen
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05548_2008_04_04
Die Züchtung von Kristallen beschäftigt die Menschheit seit je her. Insbesondere der Einsatz von Einkristallen aus Silizium oder oxidischen Materialien steht heute im industriellen Interesse. Getrieben wird die Kristallzüchtungstechnik aktuell von der Photovoltaik- und Halbleiterbranche. In diesem Beitrag wird ein Überblick über Kristallzüchtungsverfahren vermittelt. Detailliert werden die Floating-Zone (FZ)-Technik zur Züchtung von reinsten Silizium-Einkristallen sowie das Czochralski (CZ)-Verfahren zur Herstellung oxidischer Kristalle vorgestellt. Ergänzend wird auf die hierzu verwendeten Stromversorgungen eingegangen, die eine Schlüsselkomponente in der Prozesskette darstellen.
| Authors | Torge Behrens/Elmar Wrona |
|---|---|
| Publishing Date | 1 Apr 2008 |
| Format | |
| Zeitschrift | ewi - elektrowärme international - Ausgabe 04 2008 |
| Publisher | Vulkan-Verlag GmbH |
| Language | German |
| Pages | 4 |
| Title | Kristallzüchtung - Verfahren, Anwendungen, Energieversorgungen |
| Description | Die Züchtung von Kristallen beschäftigt die Menschheit seit je her. Insbesondere der Einsatz von Einkristallen aus Silizium oder oxidischen Materialien steht heute im industriellen Interesse. Getrieben wird die Kristallzüchtungstechnik aktuell von der Photovoltaik- und Halbleiterbranche. In diesem Beitrag wird ein Überblick über Kristallzüchtungsverfahren vermittelt. Detailliert werden die Floating-Zone (FZ)-Technik zur Züchtung von reinsten Silizium-Einkristallen sowie das Czochralski (CZ)-Verfahren zur Herstellung oxidischer Kristalle vorgestellt. Ergänzend wird auf die hierzu verwendeten Stromversorgungen eingegangen, die eine Schlüsselkomponente in der Prozesskette darstellen. |
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